У производњи полупроводничких плочица, процес литографије је критичан, прецизан корак који одређује принос чипа. Као „срж експозиције и снимања“ у процесу израде плочица, литографија обухвата цео ток рада – укључујући центрифугирање, експозицију, развијање, нагризање и мокро чишћење – и намеће изузетно строге захтеве за чистоћу животне средине, контролу нечистоћа, електростатичку заштиту и хемијску отпорност. Честице прашине микронског нивоа, миграција трагова јона и пролазна електростатичка пражњења могу директно изазвати дефекте фоторезиста, неусклађеност шаре, оксидацију плочица и микрократке спојеве у колима, што доводи до отпадања целих плочица и резултира огромним губицима у производњи. Многе фабрике производње и индустрије (FAB) се боре да побољшају принос својих процеса фотолитографије. Чак и када су опрема, процеси и параметри животне средине у реду, уско грло често лежи у наизглед безначајном потрошном материјалу за заштиту руку. Обичне рукавице класе 1.000 или рукавице за чисте собе индустријског квалитета су потпуно неприкладне за ултра-високе стандарде процеса фотолитографије.
Зашто је употреба обичних рукавица за чисте собе строго забрањена у процесу литографије?
Остаци праха изазивају контаминацију фоторезистом
Прекомерни јони сумпора и хлорида кородирају кола на плочицама
Статички електрицитет је измакао контроли, узрокујући квар на прецизној фотолитографској плочици
Љуштење и љуштење, што доводи до дефеката страних материја у процесу производње
LjieClean нитрилне рукавице без пудера класе 100
Суџоу Лидер се фокусира на сектор производње полупроводничких плочица и решава проблеме у процесу литографије. Развили смо специјализоване нитрилне рукавице класе 100 без пудера и са ниским ослобађањем гасова које савршено испуњавају производне захтеве целог процеса литографије плочица, што их чини преферираним заштитним потрошним материјалом за бројне фабрике и компаније за паковање и тестирање плочица.
1. Поступак без праха на бази дихлорида: нема контаминације праха у процесу фотолитографије
Користећи процес пречишћавања хлорисањем специфичан за полупроводнике, овај метод не захтева додавање помоћних адитива као што су талк, кукурузни скроб или силиконско уље током целог процеса. Обезбеђује глатку примену кроз сам процес, елиминишући честице праха и остатке силиконског уља који контаминирају фоторезист на извору, чиме се потпуно решавају дефекти страних честица у процесу фотолитографије.
2 Вишестепено испирање ултрачистом водом постиже низак садржај сумпора, низак садржај хлора и низак садржај јона
Кроз вишеструке циклусе дубинског испирања водом високе чистоће, уклањају се адитиви сировина и површински остаци. Садржај сумпора, хлора и растворљивих металних јона је строго контролисан, што резултира ниским НВР (неиспарљивим остацима). Ово спречава оксидацију плочице, корозију премаза и дефекте нагризања, чинећи рукавице потпуно компатибилним са захтевним литографским процесима за плочице од 8 и 12 инча.
3 модификоване ESD заштите у калупу за заштиту електростатички осетљивих плочица
За разлику од комерцијално доступних антистатичких рукавица са привременим премазима у спреју, Gonars користи технологију антистатичке модификације у калупу на нитрилном основном материјалу. Ово обезбеђује стабилан и уједначен површински отпор, континуирано расипајући статички електрицитет током целог процеса како би се спречило накупљање статичког електрицитета које би могло проузроковати квар фоторезиста и оштећење прецизних кола за плочице. Погодне су за кораке литографије језгра као што су експозиција и развијање.
4Флексибилно и удобно приањање, погодно за прецизне операције на микронском нивоу
Материјал рукавице је флексибилан и прилагођава се контурама руке. Са текстурираним дизајном који спречава клизање на врховима прстију, лагана је и не гломазна, што је чини идеалном за прецизне операције као што су руковање фотолитографским плочицама, отклањање грешака на опреми и прецизна инспекција. Омогућава неограничено кретање и спречава клизање, ефикасно минимизирајући штету узроковану случајним ударцима током ручних операција. Поред тога, отпорна је на фотолитографске раствараче и благе киселине и алкалије, и остаје издржљива без старења или кидања чак и током дуже употребе.
5
✅ Двослојно вакуумски затворено паковање елиминише секундарну контаминацију
Готови производи се пакују током целог процеса у чистој просторији класе 100 користећи двослојно вакуумски затворено паковање, које их потпуно изолује од прашине и влаге током складиштења и транспорта. Не долази до секундарне контаминације након отварања паковања, што им омогућава да се одмах користе у литографским чистим просторијама класе 100.
Време објаве: 23. јул 2026.